HABEN SIE LUST, GANZ VORNE DABEI ZU SEIN, WENN DIE ZUKUNFT ENTSTEHT? DAS FRAUNHOFER-INSTITUT FÜR MIKROELEKTRONISCHE SCHALTUNGEN UND SYSTEME IN DUISBURG VERGIBT ZUM NÄCHSTMÖGLICHEN ZEITPUNKT EINE
Masterarbeit zum Thema: "Optimierung von MEMS Strukturen für Back-End Prozesse"
Am Fraunhofer IMS wird eine neue Technologie entwickelt, die eine Fertigung von MEMS Drucksensoren auf Wafern mit CMOS Schaltkreisen ermöglicht. Dieser Ansatz bietet großes Potential für die Miniaturisierung und Funktionalisierung von modernen Drucksensorsystemen, wie z.B. für medizinische Implantate. Nach erfolgter MEMS-Fertigung auf CMOS Substraten erfolgt die Vereinzelung der Sensoren im Back-End. Für diese Prozesse ist eine geeignete mechanische Stabilität der Sensorelemente eine wichtige Voraussetzung.
Zur Optimierung der MEMS Sensoren sind Schutzstrukturen und stabile Randlager für die Sensorelemente zu entwickeln. Hierzu sollen die bestehenden MEMS-Designs auf Basis von neuen Simulationen weiterentwickelt und anschließend gefertigt werden. Am Fraunhofer IMS stehen verschiedenen Technologieplattformen in unserem industrienahen MEMS-Reinraum mit modernem Maschinenpark offen, die zur Sensorfertigung eingesetzt werden.
Die Durchführung von Back-End Schritten und der Analyse findet anschließend in geeigneten Reinräumen am Fraunhofer IMS statt. Über eine umfangreiche Laboranalyse der Sensoreigenschaften können Sie die Wirkung der Maßnahmen bestimmen. Analyseverfahren und Geräte stehen zur Verfügung und erlauben die optische und elektrische Charakterisierung der Sensoren.
Zur Optimierung der MEMS Sensoren sind Schutzstrukturen und stabile Randlager für die Sensorelemente zu entwickeln. Hierzu sollen die bestehenden MEMS-Designs auf Basis von neuen Simulationen weiterentwickelt und anschließend gefertigt werden. Am Fraunhofer IMS stehen verschiedenen Technologieplattformen in unserem industrienahen MEMS-Reinraum mit modernem Maschinenpark offen, die zur Sensorfertigung eingesetzt werden.
Die Durchführung von Back-End Schritten und der Analyse findet anschließend in geeigneten Reinräumen am Fraunhofer IMS statt. Über eine umfangreiche Laboranalyse der Sensoreigenschaften können Sie die Wirkung der Maßnahmen bestimmen. Analyseverfahren und Geräte stehen zur Verfügung und erlauben die optische und elektrische Charakterisierung der Sensoren.
Was Sie mitbringen
- Studium im Bereich Mikrosystemtechnik, Elektrotechnik, Physik, Nanoengineering oder eines anderen technischen/naturwissenschaftlichen Studiengangs
- Sehr gute Studienleistungen
- Erfahrungen in den Bereichen Mikrosystemtechnik und Messtechnik sind von Vorteil
- Ausgeprägte Eigeninitiative und Einsatzbereitschaft
- Eigenständige und zuverlässige Arbeitsweise sowie ein hohes Maß an Kommunikations- und Teamfähigkeit
Das Verfassen der Abschlussarbeit ist in Deutsch oder Englisch möglich.
Schwerbehinderte Menschen werden bei gleicher Eignung bevorzugt eingestellt.
Wir weisen darauf hin, dass die gewählte Berufsbezeichnung auch das dritte Geschlecht miteinbezieht.
Die Fraunhofer-Gesellschaft legt Wert auf eine geschlechtsunabhängige berufliche Gleichstellung.
Fraunhofer ist die größte Organisation für anwendungsorientierte Forschung in Europa. Unsere Forschungsfelder richten sich nach den Bedürfnissen der Menschen: Gesundheit, Sicherheit, Kommunikation, Mobilität, Energie und Umwelt. Wir sind kreativ, wir gestalten Technik, wir entwerfen Produkte, wir verbessern Verfahren, wir eröffnen neue Wege.
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Bitte übermitteln Sie hierbei Ihre vollständigen Bewerbungsunterlagen (Motivationsschreiben, chronologischer Lebenslauf, aktueller Notenspiegel im Studium, Arbeitszeugnisse bisheriger beruflicher Erfahrungen/ Praktika).
Fragen zu dieser Position beantwortet gerne Frau Irini Tsiftsi,
Telefon +49 203 3783-268, E-Mail: personal@ims.fraunhofer.de
Weitere Informationen zum Institut finden Sie unter: www.ims.fraunhofer.de
| Kennziffer: IMS-2021-19 | Bewerbungsfrist: |
